真空鍍膜廠家生產設備的配置因工藝流程而異，但一般需要以下幾類設備。

1. 真空質量檢測儀：用于檢測真空質量，如真空度、氣體成分等。檢測結果可以提供給其他設備參考，以確保設備工作順暢。

2. 真空泵：用于排出工藝室內氣體，保持工藝室真空度。根據不同的需求，可以選擇多級旁通油封泵、羅茨泵、干式泵以及分子泵等。

3. 濺射鍍膜設備：主要由光源、電源、反應室以及底座、夾具等部分構成。通過電子束或電弧等方式將金屬或半導體材料熔化并濺射到基底上，質量均勻且造價較低。

4. 電子束鍍膜設備：其主要組成部分為反應室、電子束裝置、工業自動化控制系統等。通過電子束使材料加熱到蒸發溫度，并把蒸汽噴灑在基底上，成膜速度快，精度高，適用于光學功能薄膜和高階電子元器件等。

5. 等離子體增強化學氣相沉積設備：也稱作PECVD設備，是通過離子化的氣體生成等離子體，并通過化學反應生成膜層。適用于制備功能性涂層，如硅氫化膜、氮化銅等。

6. 磁控濺射設備：真空鍍膜廠家直銷批發的產品使用恒磁或變磁場將磁性材料熔化，并噴射到基底上。該設備制備的膜層厚度均勻，結構致密，適用于制備光學鏡片以及磁盤等。

7. 光譜儀：用于測試薄膜的光學性質、厚度和材料成分。通過反射率、吸收率、折射率等精細定量分析薄膜狀況，供質量控制人員進行質量管理。

8. 清洗設備：用于清洗基底和膜層，去除表面雜質。常用的清洗方法包括化學氧化、離子水洗等。

9. 烘烤爐：用于烘干基底及膜層。通過加熱基底、膜層達到特定溫度，去除水分和有機物質，增強膜層附著力和質量。

10. 處理氣體供應器：七彩金屬真空鍍膜廠家常用的處理氣體有氮氣、氧氣、氬氣、氦氣、乙炔、氨氣等，常用于清洗、備料、反應原料、抽氣、保護等。

總之，真空鍍膜生產設備種類繁多，每一種設備的特點和應用場景各異，選擇合適的設備能夠提高生產效率、質量和降低成本。